Ecole Micro-nanotechnologies > Ecole de Micro-nanotechnologie

Avant le colloque JNTE, nous organisons une école de microtechnologie "Micro- et nano-structuration" (2 jours, cours et travaux pratiques en salle blanche données par les ingénieurs et chercheurs experts dans le domaine) pour techniciens, ingénieurs, doctorants, chercheurs et enseignants-chercheurs. L'école servira à mettre en oeuvre des connaissances en chimie, science des matériaux, microtechnologies et physique pour les futurs développements des composants (approche pluridisciplinaire) et pour donner une vue globale sur les différentes méthodes d’intégration et de micronanostructuration, leurs avantages et inconvénients à travers des ateliers pratiques et des cours.

PROGRAMME de l'ECOLE (28-29 Novembre)

• 9h cours (principes des différentes méthodes d’intégration et micro- et nanostructuration, réflexions et échanges entre les participants et intervenants) :
   
  • Introduction salle blanche
  • Lithographie I (lithographie UV, écriture directe, masques)
  • Lithographie II (lithographie à deux photons)
  • Gravure humide et RIE
  • Micro-structuration de verre (gravure humide et sèche, procédé laser femto seconde direct et assisté par gravure humide, micromoulage)
  • Polissage et qualité de surface
  • Wafer bonding (activation de surface, collage moléculaire, anodique, thermo-compression)
  • Croissance des couches minces (adhésion, cristallisation, contrôle d'orientation et taille des grains, contraintes)
  • Caractérisation des propriétés électriques DC (transport, résistivité, instrumentation, contact ohmique) et optiques
  • (En option) Ellipsométrie (niveau avancé)
     
• 8h démonstrations-ateliers en sous-groupes se feront en salle blanche, centrale technologique MIMENTO (réseau Renatech) de l'Institut FEMTO-ST: les participants auront le choix de quatre démonstrations (2h/atelier) parmi les six proposées (3 personnes maximum par atelier pour l’efficacité de la formation, la pratique et les échanges) :

1. 1. Lithographie / Ecriture directe
   2. Microfabrication par lithographie à deux photons (Nanoscribe)
   3. Structuration par RIE
   4. Croissance des couches minces par CVD et PVD et contraintes
   5. Wafer bonding et structuration du verre par laser femto seconde assisté par gravure humide (FEMTO-print)
   6. Imagerie-Ellipsométrie